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技術(shù)文章

2017
4-13

質(zhì)量控制
質(zhì)量控制LAYERTEC大力保證當(dāng)前和未來產(chǎn)品的質(zhì)量。我們的測量設(shè)備用于監(jiān)督基材和鍍膜生產(chǎn)。例如我們定期測量?表面形式?表面粗糙度/整理質(zhì)量?光譜透射和反射率?光譜相和GDD（如果適用）?使用帶OPO光源的寬帶腔衰減設(shè)置，在寬波長范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)反射率測量?某些波長和脈沖長度的損傷閾值測量精密光學(xué)測量工具LAYERTEC的精密光學(xué)設(shè)備配有用于平面和球面曲面的干涉儀。具有λ/20（633nm）平坦度的平面襯底和形式公差為λ/10（633nm）的球形襯底可以提供干涉測量方案。LAYER...
2017
4-13

基材
基材特殊激光應(yīng)用的基材，如腔環(huán)時(shí)間光譜或EUV鏡的特點(diǎn)是：??的幾何形狀：對于直徑，厚度，緯度或曲率半徑等幾何特性的公差，請參見我們目錄的第12頁??表面粗糙度??表面形狀公差??拋光表面上的缺陷數(shù)量。?LAYERTEC已經(jīng)優(yōu)化了所有這些參數(shù)的拋光程序。在下文中，我們展示了使用熔融二氧化硅和氟化鈣實(shí)現(xiàn)的一些突出的成果。規(guī)格?表面粗糙度??對于熔融二氧化硅和氟化鈣的平面基板，RMS-粗糙度??平滑彎曲的球形熔融石英表面（取決于直徑和曲率半徑）的相似結(jié)果，??即使在紫外線范圍內(nèi)，...
2017
4-13

光學(xué)鍍膜
光學(xué)鍍膜光學(xué)涂層廣泛用于改變玻璃表面的反射率，從眼鏡到大功率激光應(yīng)用。本頁將為您概述LAYERTEC定期使用的三種主要涂層技術(shù)。這些子類別介紹了電介質(zhì)金屬涂層背后的物理學(xué)以及組合金屬和電介質(zhì)層的可能性。熱和電子束蒸發(fā)熱和電子束蒸發(fā)是生產(chǎn)光學(xué)涂層常見的技術(shù)。LAYERTEC主要使用這些技術(shù)用于UV鍍膜。蒸發(fā)源安裝在蒸發(fā)室的底部。它們包含被電子槍（電子束蒸發(fā)）加熱或通過電阻加熱（熱蒸發(fā)）加熱的涂層材料。加熱方法取決于材料性質(zhì)（如熔點(diǎn)）和光學(xué)規(guī)格?；灏惭b在蒸發(fā)室頂部的旋轉(zhuǎn)基板支架...
2017
4-13

鏡片，輸出耦合器和鏡頭
鏡片，輸出耦合器和鏡頭圖1：157nm的激光鏡（AOI=0°，a）和轉(zhuǎn)向鏡（AOI=45°，b）的測量反射率和透射光譜??激光鏡：AO=0°時(shí)R=92...95％??轉(zhuǎn)向鏡（AOI=45°）：?o盧比97％?oRp90％?oRr92％??高品質(zhì)的鏡面基板，窗戶和CaF2透鏡（157nm準(zhǔn)分子級質(zhì)量，SCHOTTAG）??具有公差的PR涂層?對于R=10...30％，±2％?對于R=30...75％，o±3％?o±2％，R=75...9...
2017
4-13

金屬鍍膜
金屬鍍膜金屬是用于鏡面制造的常見的材料。拋光金屬，特別是金，銅和青銅，被用作古代已有的鏡子。在中世紀(jì)，使用放在玻璃上的錫箔和汞制造在可見光譜范圍內(nèi)具有相對恒定反射率的反射鏡。玻璃上的薄膜金屬涂層的時(shí)代始于19世紀(jì)，當(dāng)JustusvonLiebig發(fā)現(xiàn)可以使用硝酸銀和醛制造薄膜銀。用于精密光學(xué)和激光物理學(xué)應(yīng)用的鏡子是通過蒸發(fā)或?yàn)R射技術(shù)生產(chǎn)的。LAYERTEC采用磁控濺射制造金屬涂層。這導(dǎo)致具有極低雜散光損失的涂層。此外，也可以以高精度制造透明的，即非常薄的金屬涂層。有關(guān)我們的金...
2017
4-13

材料
LAYERTEC為您的產(chǎn)品提供各種基材。為了幫助您決定正確的方案，我們提供許多支持方式。在這里，您可以看到所選材料的傳輸曲線。請隨時(shí)獲取更多信息?；?11YAG(undoped)SapphireBaF2CaF2Infrasil1)Fusedsilicia(UV)BK72)SF102)Wavelengthrangefreeofabsorption400nm-4μm400nm-4μm400nm-10μm130nm-7μm300nm-3μm190nm-2μm3)400nm-1.8...
2017
4-13

飛秒激光光學(xué)
飛秒激光光學(xué)短脈沖激光器用于許多應(yīng)用中，例如時(shí)間分辨光譜，精密材料處理和大帶寬電信。在這些應(yīng)用的驅(qū)動(dòng)下，該領(lǐng)域的新發(fā)展涉及產(chǎn)生更高輸出功率和更短脈沖的激光器。目前，短脈沖物理學(xué)的大部分工作是用Ti：藍(lán)寶石激光器完成的，但是在其他過渡金屬或稀土金屬摻雜晶體如Yb：KGW的基礎(chǔ)上，染料激光器和固態(tài)激光器也用于產(chǎn)生飛秒脈沖。低于100fs脈沖的可重復(fù)生成與由棱鏡或光柵對或分散多層反射器組成的寬帶低損耗色散延遲線的發(fā)展密切相關(guān)。脈沖的頻譜帶寬通過傅里葉分析的*的定理與脈沖持續(xù)時(shí)間相關(guān)...
2017
4-13

如何基底
基材的價(jià)格和質(zhì)量由材料，形狀，尺寸，公差和拋光質(zhì)量決定。在本上，我們將提供有關(guān)上述每個(gè)問題的進(jìn)一步信息。但請注意：所有這些說明都非常簡化。詳細(xì)說明請閱讀相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)的全文。我們也很高興通過電子郵件或討論您的詳細(xì)問題。材料*個(gè)決定是基材的材料。對于高透射率的所有波長應(yīng)該沒有吸收。如果不發(fā)生傳輸，可以使用低成本材料，例如，G。Borofloat®（肖特公司）用于金屬鏡。對于表面形狀公差，低熱膨脹是有益的。形狀必須分別為兩側(cè)形狀。基本上，平面，凸面和凹面的所有組合是可能的。一個(gè)...
2017
4-13

電介質(zhì)鍍膜
電介質(zhì)鍍膜光學(xué)涂層的目的是改變光學(xué)表面的反射率。根據(jù)使用的材料和物理現(xiàn)象，原則上可以區(qū)分金屬和電介質(zhì)涂層。金屬涂層用于反射器和中性密度過濾器?？梢詫?shí)現(xiàn)的反射率由金屬的性質(zhì)給出。一些常用的光學(xué)應(yīng)用金屬在我們的目錄中有描述。然而，介電涂層使用光學(xué)干涉來改變涂覆表面的反射率。另一個(gè)主要區(qū)別是用于這種涂料的材料顯示出非常低的吸收。使用光學(xué)干涉涂層，光學(xué)表面的反射率可以從幾乎零（防反射涂層）變化到近100％（R99.999％的低損失鏡）。然而，這些反射率值僅在一定波長或波長范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)。...
2017
4-13

低損耗光學(xué)元件的反射率和透射率的確定
低損耗光學(xué)元件的反射率和透射率的確定1）通過腔衰減時(shí)間測量，可以非常地測量反射率值R99％，透射率值T99％的低損耗光學(xué)元件。與光譜儀中的測量相比，該方法有三個(gè)主要優(yōu)點(diǎn)：2）適用于非常高的反射率和透射率3）不可能獲得高于實(shí)際值的測量值4）它具有非常高的精度基本CRD測量設(shè)置Layertec配有各種腔體環(huán)形系統(tǒng)，可以穩(wěn)定地控制光學(xué)元件的質(zhì)量。有關(guān)更多詳細(xì)信息，請參閱我們的目錄內(nèi)容“低損耗光學(xué)和腔體衰減時(shí)間測量簡介”。您可以在這里下載我們的目錄。Layertec配有各種腔體環(huán)形系...

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