你的位置:首頁 > 產(chǎn)品展示 > 光學(xué)元件 > 反射鏡 >Nd:YAG和Nd:YVO4激光器
產(chǎn)品詳細(xì)頁Nd:YAG和Nd:YVO4激光器
- 產(chǎn)品型號(hào):
- 更新時(shí)間:2023-12-21
- 產(chǎn)品介紹:Nd:YAG或Nd:YVO4弱激光線的組件摻釹晶體顯示出不同波長的激光躍遷。表1概述了常見的Nd摻雜材料Nd:YAG和Nd:YVO4的激光波長。Nd:YAG和Nd:YVO4激光器
- 廠商性質(zhì):代理商
- 在線留言
產(chǎn)品介紹
品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
---|---|---|---|
組件類別 | 光學(xué)元件 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Nd:YAG或Nd:YVO4弱激光線的組件
摻釹晶體顯示出不同波長的激光躍遷。表1概述了常見的Nd摻雜材料Nd:YAG和Nd:YVO4的激光波長。
Nd:YAG | Nd:YVO4 | ||
Laser line | Second harmonic | Laser lines | Second harmonic |
946 nm | 473 nm | 915 nm | 457 nm |
1064 nm | 532 nm | 1064 nm | 532 nm |
1123 nm | 561 nm | ||
1319 nm | 659 nm | 1340 nm | 670 nm |
表1:Nd:YAG和Nd:YVO4的二次諧波的激光線和相應(yīng)波長
可以看出,可以從這些晶體獲得VIS和NIR中的各種激光線。此現(xiàn)象用于構(gòu)建緊湊的二極管泵浦的固態(tài)激光器,該激光器具有多種波長,可用于測(cè)量應(yīng)用以及投影系統(tǒng)(RGB激光器)。兩種材料中強(qiáng)的激光躍遷是1064nm線。其他波長的有效激光輻射只有通過抑制這條線才能實(shí)現(xiàn)。LAYERTEC為此應(yīng)用提供了各種激光鏡。
緊湊型激光器設(shè)計(jì)還包括泵浦二極管(808nm)和用于產(chǎn)生二次諧波的單元。這就是為什么為什么Nd:YAG或Nd:YVO4波長為1064nm的涂層大部分顯示出幾個(gè)具有高透射率和高反射率的光譜區(qū)域。在下文中,我們給出了這種涂層的一些例子。所有涂層均根據(jù)客戶規(guī)格進(jìn)行設(shè)計(jì),因?yàn)橐?guī)格取決于激光設(shè)計(jì)。這些頁面上的所有示例均適用于Nd:YAG波長。Nd:YVO4的涂層也可以設(shè)計(jì)和生產(chǎn)。
圖1:雙波長反射鏡在弱激光線及其二次諧波的反射光譜中具有高透射率,對(duì)于泵浦波長和強(qiáng)激光線:
HR(0°,473nm)> 99.85%+ HR(0°,946nm)> 99.95%+ R(0°,808nm)<2%+ R(0°,1064nm)<5%
圖2:對(duì)于泵浦波長,具有高透射率的二向色鏡的反射光譜也抑制了1064nm線:
HR(0°,1123nm)> 99.9%+ R(0°,561nm)<2%+ R(0°,808nm)<10%+ R(0°,1064nm)<50%
圖3:對(duì)于泵浦波長和二次諧波具有高透射率的薄膜偏振片的反射光譜,這也抑制了1064nm線:
HRs(56°,1123nm)> 99.9%+ Rp(56°,1123nm)<50%+ Rs,p(56°,561 + 808nm)<10%+ Rs,p(56°,1064nm)<50%
圖4:二向色鏡的反射光譜,對(duì)于NIR波長具有高反射率,并且對(duì)于相應(yīng)的二次諧波波長具有高透射率:
HR(0°,1064 + 1123 + 1319nm)> 99.9%+ R(0°,532–561 + 659nm)<2%
Nd:YAG和Nd:YVO4激光器的三次諧波分量
Nd:YAG和Nd:YVO4激光的三次諧波在材料加工以及測(cè)量應(yīng)用以及作為光學(xué)參量振蕩器的泵浦源方面越來越重要。在這些頁面上,我們介紹了355nm的光學(xué)器件:單波長和多波長反射鏡,分離器,薄膜偏振片和抗反射涂層。所有設(shè)計(jì)均根據(jù)客戶要求進(jìn)行計(jì)算。
圖1:垂直入射的單波長鏡的反射光譜(a)和轉(zhuǎn)向鏡的反射光譜(b)
圖2:355nm和532nm雙波長轉(zhuǎn)向鏡的反射光譜(a)和355nm,532nm和1064nm的三重波長轉(zhuǎn)向鏡(b)
圖3:二次諧波和地面波長的三次諧波的分離器反射光譜:
(a):標(biāo)準(zhǔn)型
(b):分離器經(jīng)過特別優(yōu)化,可在1064nm下實(shí)現(xiàn)低反射率
有關(guān)紫外線光譜范圍內(nèi)諧波的隔離器的通用規(guī)格,請(qǐng)參見本網(wǎng)站上的表格。
請(qǐng)不要猶豫與我們聯(lián)系以獲得其他入射角的隔板或反光鏡。
圖4:從二次諧波到地面波長的三次諧波的特殊分離器的反射光譜:
(熒光分離器HRs(45°,355nm)> 95%+ Rp(45°,532nm)<2%+ Rs,p(45°,1064nm)<2%
(b)HR(45°,532nm)> 99.8nm + R(45°,355nm)<5%
熒光分離器在高功率密度下顯示出延長的使用壽命。
圖5:355nm薄膜偏振片的反射光譜:HRs(55°,355nm)> 99%+ Rp(55°,355nm)<5%
可以通過角度調(diào)整來優(yōu)化p偏振光的透射率。將偏振片傾斜±2°,可使Rp的最小值移至更長或更短的波長,這可以顯著提高偏振比。
圖6:針對(duì)AOI = 0°至30°(a)優(yōu)化的355nm單波長增透膜和355nm,532nm和1064nm熔融石英上的三波長增透膜的反射光譜。
Nd:YAG和Nd:YVO4激光二次諧波的組件
Nd:YAG和Nd:YVO4激光的諧波被廣泛用于材料加工以及測(cè)量應(yīng)用。此外,Nd:YAG激光器的二次諧波通常用作Ti:Sapphire激光器的泵浦源。在這些頁面上,我們介紹532nm的光學(xué)器件:雙波長鏡,分離器,薄膜偏振片和非偏振分束器,以及用于不同配置的緊湊型二極管泵浦激光器的腔光學(xué)器件。所有設(shè)計(jì)均根據(jù)客戶要求進(jìn)行計(jì)算。
圖1:泵浦波長(808nm)具有高透射率的雙波長腔鏡的反射光譜(a)和雙波長轉(zhuǎn)向鏡(b)
圖2:分離器的反射光譜,該反射光譜來自地面波長的二次諧波:
(a):HR(0°,1064nm)> 99.9%+ R(0°,532 + 808nm)<3%
(b):HRs + p(45°,532nm)> 99.9%+ Rs + p(45°,808 + 1064nm)<2%
圖3:薄膜偏振片(a)和非偏振分束器(b)在532nm處的反射光譜,Rs = Rp = 50±2%(| Rs-Rp | <3%)
通過改進(jìn)的腔衰蕩設(shè)置,可以高精度測(cè)量用于p偏振光的薄膜偏振片的透射率。
圖4:二次諧波和地波產(chǎn)生的三次諧波分離器的反射光譜(a)以及355nm和532nm的雙波長轉(zhuǎn)向鏡的反射光譜(b)
有關(guān)紫外線光譜范圍內(nèi)諧波的隔離器的通用規(guī)格,請(qǐng)參見本網(wǎng)站上的表格。請(qǐng)不要猶豫與我們聯(lián)系以獲得其他入射角的隔板或反光鏡。
圖5:1064nm的HR反射鏡的反射光譜,也是532nm的輸出耦合器:HR(0°,1064nm)> 99.9%+ R(0°,532nm)= 99%
非線性光學(xué)晶體上的涂層
非線性光學(xué)晶體是頻率轉(zhuǎn)換的關(guān)鍵要素。 LAYERTEC在KTP和鈮酸鋰等晶體上提供各種涂層。
圖6:KTP上的雙重抗反射涂層在532nm和1064nm處的反射光譜
Nd:YAG和Nd:YVO4激光的高次諧波組件
Nd:YAG和Nd:YVO4激光的諧波被廣泛用于材料加工以及測(cè)量應(yīng)用。在這些頁面上,我們介紹了用于第四次諧波(266nm)和第五次諧波(213nm)的雙波長反射鏡和分離器。所有設(shè)計(jì)均根據(jù)客戶要求進(jìn)行計(jì)算。
圖1:圖1:266nm和355nm雙波長轉(zhuǎn)向鏡的反射光譜(a)和長波諧波和地面波長的四次諧波的分離器(b)
F
圖2:從長波長諧波和地面波長(b)測(cè)得的五次諧波轉(zhuǎn)向鏡的反射光譜(a)和五次諧波分離器的反射光譜;CaF2上的氟涂層
Separator | Centre | Reflectance at centre | Reflectance at the corresponding longer | ||||||||
266nm | 355nm | 532nm | 1064nm | ||||||||
Rs | Rp | Rs | Rp | Rs | Rp | Rs | Rp | Rs | Rp | ||
3rd harmonic | 355nm | > 99.7 | > 99 | < 5 | < 2 | < 10 | < 2 | ||||
4th harmonic | 266nm | > 99.7 | > 99 | < 5 | < 2 | < 10 | < 2 | < 10 | < 2 | ||
5th harmonic | 213nm | > 97 | > 93 | < 5 | < 2 | < 10 | < 2 | < 10 | < 2 | < 10 | < 2 |
表1:紫外線諧波分離器的通用規(guī)格
* CaF2上的氟涂層
圖3:二次諧波與第四次諧波分離器的反射光譜:
(a):HR(0°,532nm)> 99.5%+ R(0°,266nm)<10%(背面未鍍膜)
(b):HR(0°,532nm)> 99.9%+ R(0°,266nm)<5%(背面未鍍膜)
266nm的組件通常通過電子束蒸發(fā)產(chǎn)生。這些涂層顯示出很高的損傷閾值,但是在可見光譜范圍內(nèi)的反射率被限制為R> 99.5%(見圖3a)。關(guān)于用于紫外線的濺射涂層的新研究結(jié)果表明,可以生產(chǎn)出在VIS中具有明顯改善的反射率的隔離膜,它們?cè)谧贤饩€下具有相似的特性(見圖3b)。
圖4:第四和第五諧波的隔板的反射光譜:
對(duì)于非偏振光,HRr(45°,266nm)> 98%+ Rr(45°,213nm)<10%
a)為低雜散損耗而優(yōu)化的氧化物涂層(背面未涂層)
b)氟化物涂層具有較高的激光誘導(dǎo)損傷閾值(背面未涂層)
213nm的五次諧波是氧化物涂層的關(guān)鍵波長,因?yàn)檠趸X的吸收邊緣始于該波長范圍。對(duì)于高功率應(yīng)用,我們建議根據(jù)ArF準(zhǔn)分子激光鏡技術(shù)生產(chǎn)的氟化鈣上的氟化涂層。
圖5:薄膜偏振片在266nm(a)和213nm(b)的反射光譜:
a)HR(56°,266nm)> 98%+ Rp(56°,266nm)<1%
b)HR(56°,213nm)> 97%+ Rp(56°,213nm)<5%;
請(qǐng)注意,由于上述集合損失,Tp只有75%左右
磁控濺射使我們能夠?yàn)镹d:YAG激光器的第四和第五諧波提供薄膜偏振片。