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產(chǎn)品詳細頁
優(yōu)質基材

優(yōu)質基材

  • 產(chǎn)品型號:
  • 更新時間:2023-12-21
  • 產(chǎn)品介紹:腔衰蕩時間光譜儀或EUV鏡的特殊激光應用的優(yōu)質基材的特點是:
    Ø準確的幾何形狀:有關直徑,厚度,折痕或曲率半徑等幾何特性的公差,請參見我們目錄
    Ø表面形狀公差
    Ø拋光表面上的缺陷數(shù)量
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產(chǎn)品介紹

品牌其他品牌價格區(qū)間面議
組件類別光學元件應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

優(yōu)質基材

腔衰蕩時間光譜儀或EUV鏡的特殊激光應用的優(yōu)質基材的特點是:

Ø準確的幾何形狀:有關直徑,厚度,折痕或曲率半徑等幾何特性的公差,請參見我們目錄的第12頁

Ø表面粗糙度

Ø表面形狀公差

Ø拋光表面上的缺陷數(shù)量

LAYERTEC針對所有這些參數(shù)優(yōu)化了拋光程序。 在下文中,我們就會展示使用熔融二氧化硅和氟化鈣可獲得的出色結果。

規(guī)格

表面粗糙度

ØRMS-熔融石英和氟化鈣的平面基板的粗糙度<1.5Å

Ø在光滑彎曲的球形熔融石英表面上得到相似的結果(取決于直徑和曲率半徑的比率)

Ø即使在紫外線范圍內(nèi),基材的散射損耗也非常低:

ØTS = 2 x 10 – 5 at 248nm (total backscattering)

ØTS = 5.6 x 10 – 4 (total backscattering) and 7.5 x 10 – 4 (forward scattering) at 193 nm

Ø即使在DUV / VUV波長范圍內(nèi)也適用于低損耗光學元件


高質量拋光熔融石英基板的功率譜密度(PSD)曲線(在FhG IOF Jena上執(zhí)行的測量)


高質量拋光CaF2基板(在FhG IOF Jena執(zhí)行)的3D AFM測量,均方根粗糙度0.12nm

表面形狀公差

Fused silica

Plane

λ/20 (633nm) for diameters of 6.35mm … 101.6 mm

Spherical

λ/10 (633nm) for diameters of 6.35mm … 38.1mm

CaF2

Plane

λ/10 (633nm) for diameters of 12.7mm … 25.4 mm

λ/4 (633nm) for diameters of 38.1mm … 50.8 mm

Spherical

λ/4 (633nm) for diameters of 12.7mm ... 50.8mm

 

表面質量

Material

ISO 10110 (25mm)

Approximately equivalent to MIL-O-13830

Fused Silica

5/1x 0.010 L1x 0.0005

Scratch - Dig 5 - 1

CaF2

5/1x 0.016 L1x 0.0010

Scratch - Dig 10 - 2

 

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