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產(chǎn)品詳細頁(yè)
手動(dòng)激光功率衰減器LPA-M

手動(dòng)激光功率衰減器LPA-M

  • 產(chǎn)品型號:
  • 更新時(shí)間:2024-04-15
  • 產(chǎn)品介紹:手動(dòng)激光功率衰減器LPA-M
    4Lasers設計和制造工業(yè)級手動(dòng)控制激光功率衰減器,用于240 nm至2000 nm的紫外線(xiàn)、可見(jiàn)光和近紅外光譜范圍。
    這些激光功率衰減器的所有光學(xué)元件都是為高LIDT而制造的,即使在工業(yè)應用中與高功率激光器一起使用時(shí),也能提供穩定可靠的性能。
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):代理商
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產(chǎn)品介紹

品牌其他品牌應用領(lǐng)域環(huán)保,化工,電子,綜合

手動(dòng)激光功率衰減器LPA-M

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主要特點(diǎn)

l                      工業(yè)穩健設計

l                      寬波長(cháng)采用240 nm-2µm

l                      有成本效率的

l                      適用于高功率工業(yè)激光器

l                      提供帶水冷功能的型號

應用實(shí)例

l                      激光微加工

l                      激光功率衰減

l                      研究

描述

4Lasers設計和制造工業(yè)級手動(dòng)控制激光功率衰減器,用于240 nm至2000 nm的紫外線(xiàn)、可見(jiàn)光和近紅外光譜范圍。

手動(dòng)激光功率衰減器LPA-M的所有光學(xué)元件都是為高LIDT而制造的,即使在工業(yè)應用中與高功率激光器一起使用時(shí),也能提供穩定可靠的性能。

規格

可變手動(dòng)激光功率衰減器規格

調整

手冊

輸入和輸出凈孔徑

8 mm

尺寸(高x寬x長(cháng))

57 x 72 x 105 mm

產(chǎn)品信息

項目

設計波長(cháng)

激光損傷閾值

衰減范圍

冷卻系統

LPA-M

200-300 nm

>500MW/cm^2 10 ns @ 1064 nm

0,01 - 70%

無(wú)源,導電

LPA-M

350-2300 nm

>500MW/cm^2 10 ns @ 1064 nm

0,01 - 70%

無(wú)源,導電

LPA-M-W

200-300 nm

>500MW/cm^2 10 ns @ 1064 nm

0,01 - 70%

LPA-M-W

350-2300 nm

>500MW/cm^2 10 ns @ 1064 nm

0,01 - 70%

LPA-M-W

1064 nm

10 J/cm2 (10 ns @ 1064 nm)

0,1 - 98 %

LPA-M-W

1030 nm

10 J/cm2 (10 ns @ 1064 nm)

0,1 - 98 %

LPA-M-W

532 nm

5 J/cm2 (10 ns @ 532 nm)

0,1 - 98 %

LPA-M-W

515 nm

5 J/cm2 (10 ns @ 532 nm)

0,1 - 98 %

LPA-M-W

343 nm

3 J/cm2 (10 ns @ 355 nm)

0,2 - 96 %

LPA-M-W

355 nm

3 J/cm2 (10 ns @ 355 nm)

0,2 - 96 %

LPA-M-W

266 nm

2 J/cm2 (10 ns @ 266 nm)

0,5 - 95%

LPA-M-W

257 nm

2 J/cm2 (10 ns @ 266 nm)

0,5 - 95%

LPA-M

1064 nm

10 J/cm2 (10 ns @ 1064 nm)

0,1 - 98 %

無(wú)源,導電

LPA-M

1030 nm

10 J/cm2 (10 ns @ 1064 nm)

0,1 - 98 %

無(wú)源,導電

LPA-M

532 nm

5 J/cm2 (10 ns @ 532 nm)

0,1 - 98 %

無(wú)源,導電

LPA-M

515 nm

5 J/cm2 (10 ns @ 532 nm)

0,1 - 98 %

無(wú)源,導電

LPA-M

343 nm

3 J/cm2 (10 ns @ 355 nm)

0,2 - 96 %

無(wú)源,導電

LPA-M

355 nm

3 J/cm2 (10 ns @ 355 nm)

0,2 - 96 %

無(wú)源,導電

LPA-M

266 nm

2 J/cm2 (10 ns @ 266 nm)

0,5 - 95%

無(wú)源,導電

LPA-M

257 nm

2 J/cm2 (10 ns @ 266 nm)

0,5 - 95%

無(wú)源,導電



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